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DC電源插座EUV光刻技術(shù)專家們?nèi)猿謶岩蓱B(tài)度
發(fā)布者: 發(fā)布時(shí)間:2012/12/18 0:16:36 閱讀:

DC電源插座EUV光刻技術(shù)專家們?nèi)猿謶岩蓱B(tài)度
這是最后的半導(dǎo)體路線圖193納米蝕刻——下一代將不得不去157納米光。DC電源插座
吉姆Blatchford,德州儀器的經(jīng)理的前端處理,剛剛完成了一個(gè)領(lǐng)先的談判為157納米光刻系統(tǒng),但他仍擔(dān)心未經(jīng)證明的技術(shù),所以他去一個(gè)學(xué)報(bào)(社會(huì)的光照片儀表工程師)會(huì)話在157納米蝕刻。
當(dāng)他到達(dá)時(shí),然而,他驚奇地發(fā)現(xiàn)房間幾乎空無一人。雨是外面下著傾盆大雨使一個(gè)lonley去核機(jī)行話沒有通常的人群噪音掩蓋它。不對(duì)勁在157納米。DC電源插座
“我記得它這么好。我們剛完成談判在我們157納米的工具,但當(dāng)我走進(jìn)一個(gè)157 - nanmoter學(xué)報(bào)2004房間的會(huì)議幾乎完全空的。的聲音,大雨傾盆而降的屋頂被怪誕的。我馬上知道事情不對(duì)勁,“Blatchford說。
在謎團(tuán)被揭開Blatchford時(shí)發(fā)現(xiàn),與會(huì)者都擠在浸光刻會(huì)話為193納米,主持人聲稱工程師不需要風(fēng)險(xiǎn)要157納米。他們要做的就是將減少透鏡最近的晶圓片在水減少特征尺寸的index-of-refractionn(1.44)。和更高的指數(shù)液體,它應(yīng)該可以擴(kuò)展193納米光刻evern進(jìn)一步。
“什么是最令我驚訝的是如何快速每個(gè)人都采用了浸液式光刻。一旦它也成為了一個(gè)可行的技術(shù),每個(gè)人都有,”Blatchford車載立即說。DC電源插座

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